ウェットベンチは、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たす装置です。この装置は、半導体ウェーハー上の複数の工程を遂行するための特殊な作業スペースを提供します。ウェットベンチは、化学的な処理や洗浄工程を行うための専用のタンクやポンプ、ノズル、制御システムなどを備えています。これにより、半導体ウェーハーの表面を洗浄し、薬品を用いて微細なパターンを形成するなど、微細な加工を行うことが可能です。ウェットベンチは、製造プロセスの品質と効率を向上させ、高性能な半導体デバイスの製造に欠かせない重要な機器です。
クリーンルームは、半導体製造およびその他の高精度な産業プロセスにおいて使用される特殊な作業環境です。この部屋は、微細な粒子や微生物などの外部からの汚染物質を最小限に抑えるために設計されています。半導体製造においては、クリーンルームは非常に重要であり、最新の技術と規制に適合するように設計されています。