Der Nassarbeitsplatz umfasst eine Vielzahl von Geräten/Anwendungen, bei denen Chemikalien wie Säuren/Basen und Lösungsmittel verwendet werden können. Ein Beispiel für einen Nassarbeitsplatz sind chemische Tauchbecken für das Ätzen von Wafern. Bei Front-End-of-the-Line- (FEOL) und Back-End-of-the-Line- (BEOL) Prozessen werden in der Regel Nassprozesswerkzeuge eingesetzt. Die typischen Anwendungen sind hier Ätzen, Reinigen und Abtragen. Geräte für den Nassarbeitsplatz müssen auch unter Berücksichtigung von Reinraumanforderungen konzipiert werden. Weitere Einzelheiten finden Sie unter: Werksausrüstung, Reinraum und ESD.
Jeder Reinraum ist anders. Die Hersteller müssen viele Faktoren berücksichtigen, von der Reinraumklasse über das Nutzungsspektrum bis hin zu spezifischen Kundenanforderungen. Bauliche Elemente wie Wände, Decken und Luftschleusen, Lüftungs- und Beleuchtungsanlagen sowie die Einrichtung müssen detailliert geplant werden. Dabei spielen die richtigen Materialien eine wichtige Rolle.
Die Leistung und die Lebensdauer von Kunststoffen für die Semiconductor-Industrie werden von einer Vielzahl von Faktoren beeinflusst. Diese Kriterien müssen berücksichtigt werden, um die richtige Wahl der Materialien zu treffen. Beispiele hierfür sind:
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